产品介绍

Product introduction

氮化蚀刻设备
全自动湿蚀刻系统
全自动有机溶剂蚀刻系统
氮化蚀刻设备
  • 融合本公司的管线加热器和化学浴。
  • 氮化硅膜是半导体制造过程中必不可少的，可用高温磷酸去除。
  • 干燥机配备了本公司的旋转干燥机。
全自动湿蚀刻系统
  • 湿蚀刻系统带有两个用于化学蚀刻、用水清洗和干燥的传送臂。
  • 附有超声波发生器。
  • 干燥配备了本公司的旋转干燥机。
  • 可处理5英寸到12英寸。
全自动有机溶剂蚀刻系统
  • 传送臂自动传送盒子以处理晶片。
石英管清洗设备
  • 干燥设备中使用的石英管会自动清洁。